TSI1NM掃描電遷移粒徑譜儀特點與優(yōu)勢快速獲得粒徑和數(shù)量濃度的高分辨率數(shù)據(jù)優(yōu)化使擴散損失最小1至50nm間>109個通道配合3081A長DMA差分靜電遷移分析儀使用，可測量從1nm到1μm3個粒徑數(shù)量級的粒子模塊化組件設計，可以根據(jù)用戶測量需求定制，例如單獨使用1nmCPC等。內(nèi)置診斷和自動檢測系統(tǒng)組件，可以獲得可靠和可重復的測量數(shù)據(jù)。易于安裝和使用的氣溶膠儀器管理器（AIM）軟件。多功能的粒子測量方式：適用于多模樣品。 TSI1NM掃描電遷移粒徑譜儀產(chǎn)品詳情1納米SMPS系統(tǒng)結(jié)合了TSI在粒子分級和計數(shù)方面的傳統(tǒng)優(yōu)勢，并采用了能夠測量小于1納米粒子的新技術。優(yōu)化后的3086型差分靜電遷移分析儀能夠進一步降低了這些微小粒子的擴散損失。3757型納米增強儀介于DMA和標準CPC之間，采用二甘醇對1納米粒子預生長，進而實現(xiàn)CPC檢測。新的納米增強儀設計加強了CPC與納米增強儀的集成性，使系統(tǒng)的設置和使用更加容易。研究人員通過使用這些儀器，可以將粒子研究推向令人興奮的新領域。關鍵應用包括：大氣研究 -監(jiān)測新的粒子形成和動力學、云凝聚，并縮小質(zhì)譜儀與常規(guī)粒子粒徑分布測量之間的差距。非常適合高污染城市中的亞3nm粒子和粒子源研究以及健康影響因素研究材料科學 -系統(tǒng)可以可靠的近實時反饋監(jiān)測和表征亞3nm粒子，非常適合基于氣溶膠的工程納米粒子合成、納米粒子功能化、納米分析化學、反應動力學控制和催化劑合成。1nmSMPS不僅僅是能觀察1nm以上成核的檢測器，還是全面的粒子光譜儀，能夠以極高的分辨率顯示了這些事件中的粒徑分布情況。組件的模塊化非常便于用戶根據(jù)測量需求定制系統(tǒng)：節(jié)省您的時間和金錢。如果您已經(jīng)擁有一套配備了3750型CPC的3938系列SMPS系統(tǒng)，您只需再增加一臺1NMDMA差分靜電遷移分析儀和納米增強儀，無需調(diào)整您的分級器和高級中和器，且您將免費更新到最新版本的AIM軟件。 TSI1NM掃描電遷移粒徑譜儀應用基礎氣溶膠研究通過粒子源（如火焰合成、激光燒蝕、火花產(chǎn)生和成核/凝結(jié)）研究粒子成核和粒子生長。燃燒和發(fā)動機排氣研究（有機燃料、低于3nm的排放、天然氣發(fā)動機、塑料成型和焊接過濾研究吸入或暴露室研究*健康影響因素研究*功能和優(yōu)點中的介紹基于下列假設：SMPS光譜儀包含3082型分級器、1nmDMA差分靜電遷移分析儀、3757型納米增強儀和3750型凝聚核粒子計數(shù)器等組件。