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人們把破壞大氣臭氧層、危害人類(lèi)生存環(huán)境的物質(zhì)稱為“消耗臭氧層物質(zhì)”，簡(jiǎn)稱ODS。目前認(rèn)為ODS包括下列物質(zhì)：CFC、哈龍（Halon）、四氯化碳、甲基氯仿、溴甲烷以及HCFC、HBFC等 。根據(jù)ODS物質(zhì)破壞臭氧層能力的不同，為了便于衡量，科學(xué)家根據(jù)科學(xué)試驗(yàn)為這些物質(zhì)建立了破壞臭氧層潛能值即ODP值。CFC-11的ODP值為1.0。包括：CFC、HCFC、Halon哈龍、HBFC、HFC、PFC、CHCs、Bromomethane甲基?。ㄤ寮淄椋?nbsp;   國(guó)際組織《關(guān)于消耗臭氧層物質(zhì)的蒙特利爾議定書(shū)》及其該《議定書(shū)修正》規(guī)定了15種氯氟烷烴（CFCs）、 3種哈龍、40種含氫氯氟烷烴（HCFCs）、34種含氫溴氟烷烴（HBFCs）、四氯化碳（CCl4）、甲基氯仿（CH3CCl3）和甲基溴（CH3Br）為控制使用的消耗臭氧層物質(zhì)，也稱受控物質(zhì)。     氯氟烷烴（CFCs）。此類(lèi)化合物自1928年人類(lèi)首次合成后被以多種方式使用，冰箱、空調(diào)制冷劑、氣霧劑制品中的推進(jìn)劑（CFC11、CFC12）、生產(chǎn)靠墊和墊子的軟發(fā)泡劑、印刷線路板和其它設(shè)備的清洗劑等。     含氫氯氟烷烴（HCFC）。此類(lèi)物質(zhì)是CFCs的一種過(guò)渡性替代品，HCFC因?yàn)楹蠬，使得它在底層大氣易于分解，對(duì)O3層的破壞能力低于CFCs，但長(zhǎng)期和大量使用對(duì)O3層危害也很大。     在工程和生產(chǎn)中作為溶劑的四氯化碳（CCl4）和甲基氯仿（CH3CCl3）同樣具有很大的破壞O3層的潛值，所以也被列為受控物質(zhì)。     溴氟烷烴主要是哈龍：哈龍1211（CF2BrCl）、哈龍1310（CF3Br）、哈龍2420（C2F4Br2），這些物質(zhì)一般用作特殊場(chǎng)合的滅火劑。此類(lèi)物質(zhì)對(duì)臭氧層最具破壞性，比CFCs高3～10倍，1994年發(fā)達(dá)國(guó)家已經(jīng)停止這3種哈龍的生產(chǎn)。     近年來(lái)，主要用于土壤熏蒸和檢疫的另一種破壞臭氧層的含溴化合物即甲基溴（CH3Br）引起了人們的重視，它也被列為受控物質(zhì)。