ＨＤ半光亮鎳光澤劑 鍍液組成及操作條件 成分及工藝條件 范圍 標準 ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ （２６０～３２０?。纾? ３００?。纾? ＮｉＣｌ２·６Ｈ２Ｏ （３８～５３）?。纾? ４５　ｇ／Ｌ Ｈ３Ｂ０３ （３８～５０）?。纾? ４５　ｇ／Ｌ 半光亮柔軟劑 （３～５）?。恚欤? ４?。恚欤? 半光亮整平劑 （０．４～０．６）　ｍｌ／Ｌ ０．５?。恚欤? 半光亮潤濕劑 （１～３）?。恚欤? ２　ｍｌ／Ｌ ｐＨ ３．８～４．５ 溫度℃ ５０～６０ Ｄｋ ２～６Ａ／ｄｍ２ 消耗量： 半光亮柔軟劑?。福啊保埃埃恚欤耍粒? 半光亮整平劑?。保埃啊保担埃恚欤耍粒? 用途及特性 １．　該工藝是專門為防腐性能要求高的電鍍件而設計，適用于作為多層鎳 　　　系統(tǒng)中的半光亮鎳底層； ２．　不含香豆素，甲醛，鍍液穩(wěn)定性高，降低廢水處理的成本； ３．　鍍層填平性，柔軟性佳。