超純水設(shè)備性能優(yōu)勢
      EDI水處理裝置性能優(yōu)勢數(shù)不勝數(shù)，其能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，不會因?yàn)闃渲偕Ｖ惯\(yùn)行，設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，超純水設(shè)備在出廠前均需進(jìn)行裝置調(diào)試，所以設(shè)備故障幾率較小，日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡單。
超純水系統(tǒng)內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時，EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。
超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
      我公司超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
超純水系統(tǒng)前景
      清洗行業(yè)超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時，EDI處理設(shè)備廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。
 3）EDI設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
   A、無需酸堿再生，無化學(xué)藥劑使用，無酸堿廢水排放，生產(chǎn)過程無任何污染，屬清潔生產(chǎn)； 
   B、無需停機(jī)再生，連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水； 
   C、運(yùn)行穩(wěn)定可靠，降低運(yùn)行和維修費(fèi)用； 
   D、無需派專門人員看守，易于實(shí)現(xiàn)設(shè)備自動化控制； 
   E、設(shè)備占地面積小，減少車間建設(shè)面積，節(jié)約場地建設(shè)費(fèi)用投資。 
   F、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進(jìn)行個性化設(shè)計(jì)，結(jié)合先進(jìn)的控制軟件，現(xiàn)場在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù)，避免人工誤操作，多方位確保系統(tǒng)長期穩(wěn)定運(yùn)行。
4）應(yīng)用領(lǐng)域
A、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。  
B、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。  
C、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；